Precio FOB
Obtener el precio más reciente|
1 Piece Minimum Order
País:
China
N º de Modelo:
GK2
Precio FOB:
Lugar de origen:
China
Precio de pedido mínimo:
-
Cantidad de pedido mínimo:
1 Piece
Detalle de embalaje:
200kg
El tiempo de entrega:
2 months
Capacidad de suministro:
1 Piece per Month
Tipo de pago:
PayPal, Western Union, T/T
Grupo de productos :
Persona de contacto Ms. Karen
Liulitun, Chaoyang District, Beijing, Beijing
Lithography GK2 Technical parameter：
| Item |
Parameter |
|
The size |
a.**0X**0X2ï¼3mmï¼›b.*5X*5X2—3mmï¼›c.*3X*3X2—3(can choose)ï¼› |
|
Silicon size |
φ*5—*5mm |
|
The line |
**4μm, The thinnest can be 2μm |
|
Mask and silicon displacement range |
X/Y±2.5mm,(rotation) ±6° |
|
Worktable rotate around the principal axis |
Coarse adjustment **0° can be fine adjusted. |
|
Worktable moving range |
X,Y compose φ*5mm |
|
The? worktable’s tee surface to the moulding board |
0—7.5mm |
|
Exposal light |
GCQ**0W over high pressure HG light，Exposal wave length，**0―**6nm |
|
Exposal system should be above? |
7mw |
|
Exposal system uniformity of illuminance range should be in φ*5mm |
±5ï¼… |
|
Microscopical lighting wave length |
≈**5nm |
|
Time of exposure control range |
0.1 sec—*9 min |
|
Amplification of the binocular microscope |
a. Two kinds ocular:*0X,*6Xï¼›b. Three kind plan objective :6X,9X,*5Xï¼›c.Composed magnification ratio.:*0X—**0Xï¼› |
|
Vacuum contact pressure |
≥0.7kgf |
|
Dimension |
***0X**0X**0mm(two pcs) |
|
Weight |
**0kg |
| País: | China |
| N º de Modelo: | GK2 |
| Precio FOB: | Obtener el precio más reciente |
| Lugar de origen: | China |
| Precio de pedido mínimo: | - |
| Cantidad de pedido mínimo: | 1 Piece |
| Detalle de embalaje: | 200kg |
| El tiempo de entrega: | 2 months |
| Capacidad de suministro: | 1 Piece per Month |
| Tipo de pago: | PayPal, Western Union, T/T |
| Grupo de productos : | lithography machine |
