Precio FOB
Obtener el precio más reciente100 ~ 330 / Piece ( Negotiable )
|1 Piece Minimum Order
País:
China
N º de Modelo:
-
Precio FOB:
100 ~ 330 / Piece ( Negotiable ) Obtener el precio más reciente
Lugar de origen:
-
Precio de pedido mínimo:
100 per Piece
Cantidad de pedido mínimo:
1 Piece
Detalle de embalaje:
Vacuum packing
El tiempo de entrega:
20days
Capacidad de suministro:
-
Tipo de pago:
T/T, L/C, D/A, D/P, Western Union
Grupo de productos :
-
Persona de contacto Mr. Eric
Xinyi Street, Xinxiang, Henan
Ti*0Cr*0 sputtering target
TiCr, TiAl, TiNi,
NiV , *9.*9%Ti, *9.**5%Ti , *9.*9Ni, Al ,Nb, Cr*9.*5%
Round target,
Dia.*****0mm
Thickness ****0mm
Plate target,
Length ******0mm
Width *****0mm
Thickness ****0mm
For use in semiconductor,chemical vapor deposition(CVD) and
physical vapor deposition(PVD),display and optical applications
| País: | China |
| N º de Modelo: | - |
| Precio FOB: | 100 ~ 330 / Piece ( Negotiable ) Obtener el precio más reciente |
| Lugar de origen: | - |
| Precio de pedido mínimo: | 100 per Piece |
| Cantidad de pedido mínimo: | 1 Piece |
| Detalle de embalaje: | Vacuum packing |
| El tiempo de entrega: | 20days |
| Capacidad de suministro: | - |
| Tipo de pago: | T/T, L/C, D/A, D/P, Western Union |
| Grupo de productos : | - |
