Precio FOB
Obtener el precio más reciente|
- Minimum Order
País:
China
N º de Modelo:
KW-4AH
Precio FOB:
Lugar de origen:
-
Precio de pedido mínimo:
-
Cantidad de pedido mínimo:
-
Detalle de embalaje:
-
El tiempo de entrega:
-
Capacidad de suministro:
-
Tipo de pago:
-
Grupo de productos :
CHEMAT
TECHNOLOGY, INC. Has designed and manufactured a compact and
easy-to-use hotplate, Model KW*4AH, for baking and curing thin
films and coatings. Its rugged, portable design, and temperature
uniformity make it a versatile tool for research facilities. In
conjunction with KW*4A spin coater, KW*4AH hotplate can be used to
fabricate metal oxide thin films, polymer coatings and metal
organic thin films.
Operation: Manual
Load
Process
Control: Program (For details see OMRAN
operation manual)
Temperature fluctuation: ≤ ±
1°C
Temperature uniformity: ≤ ± 3%
Temperature Range:
—*0°C - **0°C (KW*4AH***0)
—*0°C - **0°C (KW*4AH***0)
Substrate
Size:
—7.5 inch X 7.5 inch(KW*4AH***0)
—5.8 inch X 5.8 inch(KW*4AH***0)
Inert gas purge (KW*4AH***0
only)
| País: | China |
| N º de Modelo: | KW-4AH |
| Precio FOB: | Obtener el precio más reciente |
| Lugar de origen: | - |
| Precio de pedido mínimo: | - |
| Cantidad de pedido mínimo: | - |
| Detalle de embalaje: | - |
| El tiempo de entrega: | - |
| Capacidad de suministro: | - |
| Tipo de pago: | - |
| Grupo de productos : | lab facility |
